Sistema High-Resolution de Nanopositioning e de exploração - P-733.3CD - Physik Instrumente

Physik Instrumente (PI) introduziu seu sistema deposicionamento & de varredura de P-733.3CD novo, de um XYZ high-resolution projetado para a microscopia de alta resolução, pesquisa dos materiais, imagem latente e ultra aplicações do alinhamento da precisão. O projeto nanopositioning & de varredura Do P-733.3CD de sistema das características da paralelo-cinemática, que reduz a massa movida, e permite umas velocidades de funcionamento mais elevadas do que outros estágios piezo da exploração.

Physik Instrumente sistema deposicionamento e de varredura de P-733.3CD

Os sistemas piezo de P-733.3CD fornecem uma escala de posicionamento e de varredura do µm 100×100×10 junto com uma definição de secundário-nanômetro. O Z-axis de alta velocidade pode ativamente compensar o para fora--plano, desvio do Z-axis durante as varreduras XY, importantes para aplicações do AFM. A grande abertura desobstruída é uma vantagem em aplicações da transmitir-luz.

A posição é medida sem contato físico usando sensores capacitivos. Em combinação com a definição de posicionamento de bem sob 1 nanômetro, torna possível conseguir muito altos níeses das linearidades. Uma vantagem mais adicional da metrologia direta com sensores capacitivos é a fidelidade elevada da fase e a largura de faixa elevada de até 10 quilohertz. A definição do circuito fechado é 0.3 nanômetros para os machados de X e de Y e 0.2 nanômetros para o Z-axis opcional.

Em um sistema multiaxis da cinemática paralela, todos os atuadores actuam diretamente na mesma plataforma movente. Isto significa que todos os machados vêem o mesmos maciço movido e podem ser projetados com propriedades dinâmicas idênticas. Os sistemas paralelos da cinemática têm vantagens adicionais sobre os sistemas em série empilhados, não incluindo a construção mais-compacta, nenhum erro cumulativo dos machados diferentes e nenhum cabo movente para causar a fricção que degrada a definição e as linearidades. Os sistemas paralelos da cinemática podem ser operados com até seis graus de liberdade com baixa inércia e desempenho dinâmico excelente.

Os sistemas nanopositioning Multiaxis equipados com a cinemática da paralela e a metrologia direta podem medir a posição da plataforma em todos os graus de liberdade de encontro a uma referência comum, fixa: isto é metrologia paralela. Em tais sistemas, o movimento indesejável de um atuador no sentido de outro (interferência) é detectado imediatamente e compensado ativamente pelos servo-laços. Sabido como o conceito de controle ativo da trajectória, a cinemática paralela/combinação paralela da metrologia pode manter o desvio de uma trajectória a inferior alguns nanômetros, mesmo na operação dinâmica.

A aplicação do sistema nanopositioning & de varredura de P-733.3CD inclui:

• Microscopia de exploração
• Nanopositioning
• Processamento de imagem/estabilização
• Biotecnologia
• Metrologia/Interferometry
• Teste do semicondutor
• Micromanipulation
• Posicionamento da máscara/bolacha

Mais informação: PI Nanopositioning e sistema da exploração