Viruta, semiconductor

Synopsys integra el ranurador con hilos múltiples de Zroute en recopilador del IC
Synopsys ha anunciado la integración del ranurador con hilos múltiples de Zroute en el recopilador del IC de la compañía. La arquitectura de Zroute incorpora la tecnología avanzada de la encaminamiento, tales [...]
- 3 de junio de 2008
Keithley modela 2635 y 2636 instrumentos para el análisis paramétrico y la prueba del semiconductor
Los instrumentos de Keithley anunciaron sus nuevos dispositivos de la instrumentación para el análisis paramétrico y la prueba del semiconductor. Los modelos nuevos 2635 y modelo 2636 [...]
- 16 de septiembre de 2007

Tecnología de la impresión de IBM Nanoscale
Los investigadores de IBM y de ETH Zurich introdujeron una nueva técnica de la impresión del nanoscale, que permiten a científicos poner partículas individuales exacto donde [...]
- 12 de septiembre de 2007
Paquete de la extracción de HVMOS para la plataforma de programación de IC-CAP - Agilent
Agilent ha lanzado su nuevo paquete de la extracción de HVMOS, una solución de la extracción del parámetro para (alto voltaje) el semiconductor de óxido de metal complementario de alto voltaje [...]
- 15 de agosto de 2007
Sistema de alta resolución de Nanopositioning y de la exploración - P-733.3CD - Physik Instrumente
Physik Instrumente (pi) introdujo su nuevo sistema de nano-colocación y de exploración de P-733.3CD, de un XYZ de alta resolución diseñado para la microscopia de alta resolución, materiales [...]
- 3 de agosto de 2007
Numonyx, el New Semiconductor Company creada por Intel, STMicroelectronics y los socios de Francisco
Intel, STMicroelectronics y los socios de Francisco revelaron el nombre de compañía de Numonyx para la compañía independiente pendiente del semiconductor anunciada el mayo [...]
- 23 de julio de 2007
microscopio de alta resolución para la prueba del Oblea-Nivel - SUSS MicroTec de Digitaces del iVista
SUSS MicroTec ha lanzado el microscopio de alta resolución de Digitaces del iVista, entregando la alta resolución y las herramientas de software necesarias para los usos de prueba del oblea-nivel [...]
- 23 de julio de 2007
topografía superficial 45nm que perfila el sistema - KLA-Tencor HRP-350
KLA-Tencor introdujo HRP-350, una topografía superficial 45nm que perfilaba el sistema, ofreciendo las agujas de diamante abajo al radio 20nm y a una plataforma [...] del bajo-ruido
- 16 de julio de 2007
arquitectura periférica Brazo-basada del subsistema - eSilicon
el eSilicon ha anunciado una nueva arquitectura periférica Brazo-basada del subsistema, que se construye alrededor de los procesadores de ARM7TDMI y de ARM926EJ, conveniente para [...]
- 6 de julio de 2007
Solución de Verigy V93000 Nanoelectronics para 65nm y Digitaces más pequeñas ICs
Verigy introdujo la solución de V93000 Nanoelectronics Digital, proporcionando los datos de diagnóstico y paramétricos exactos para la prueba estructural y funcional para la oblea [...]
- 27 de junio de 2007
Plataforma virtual de DesignWare VPXA3 para Marvell PXA3xx XScale - Synopsys
Synopsys anunció la disponibilidad de la plataforma virtual de DesignWare VPXA3. Las plataformas virtuales mejoran calidad del diseño y acortan el tiempo-a-mercado por [...]
- 21 de junio de 2007
Sistemas de la creación de un prototipo de ASIC - CHIPit - favorable diseño
El favorable diseño anunció (Mei 2007) el lanzamiento de su serie de CHIPit V5, la GEN siguiente de su familia de producto de CHIPit. [...]
- 15 de junio de 2007
plataforma SoC del diseño de 45nm Cmos para los productos electrónicos de consumo sin hilos y portables - STMicroelectronics
STMicroelectronics reveló los detalles de su plataforma del diseño de 45nm Cmos para la Sistema-en-Viruta siguiente-GEN (SoC), apuntada para los productos electrónicos de consumo sin hilos y portables. [...]
- 14 de junio de 2007
La alianza común de la plataforma anunció los modelos de 45nm DFM (diseño para la fabricación)
IBM, cargado y Samsung, tres compañías de alianza común de la tecnología de la plataforma anunciaron la disponibilidad de los modelos de la tecnología de la diseñar-para-fabricación (DFM), [...]
- 8 de junio de 2007
Programa manual del catalizador de la metodología de la verificación (VMM) - Synopsys
Synopsys anunció su programa manual del catalizador de la metodología de la verificación (VMM) para acelerar más lejos la adopción extensa de el VMM industria-principal para [...]
- 6 de junio de 2007
IBM anunció Cu-45 el silicio del nanómetro ASIC del alto rendimiento 45 en el aislador (SOI)
IBM anunció su viruta de encargo del alto rendimiento Cu-45 (ASIC), desarrollada basado en el silicio de 45 nanómetro de IBM en tecnología del aislador (SOI). Estos [...]
- 6 de junio de 2007
Verificación de ASIC y de ASSP - plataforma de Confirma - Synplicity
Synplicity reveló la plataforma de Confirma, la solución de una verificación de ASIC y de ASSP. Las ofertas de la plataforma de Confirma reúnen el soporte físico y el software [...]
- 5 de junio de 2007
viruta Brazo-basada en el silicio de 65nm de UMC en proceso del aislador (SOI)
UMC y el BRAZO anunciaron que una viruta de la prueba construida con las bibliotecas del BRAZO SOI (silicio en aislador) fue grabada-hacia fuera con éxito en [...]
- 5 de junio de 2007
Flujo 8.0 de la referencia de las ayudas TSMC de Synopsys para el diseño 45nm
Ayuda de Synopsys para las tecnologías de proceso 8.0 y 45nm del flujo de la referencia de TSMC. Synopsys está apoyando el flujo 8.0 de la referencia en su galaxia [...]
- 5 de junio de 2007
La cadencia acelera el flujo 8.0 de la referencia de TSMC para el diseño 45nm
La cadencia está proporcionando las capacidades dominantes al flujo 8.0 de la referencia de TSMC (Taiwán Semiconductor Manufacturing Company). El nuevo diseño [...] de las direcciones del flujo de la referencia
- 5 de junio de 2007

Viruta, semiconductor

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